Außenminister Heiko Maas zu Gast in den USA

Bundesaußenminister Heiko Maas. Foto: Harald Tittel/dpa

Bundesaußenminister Heiko Maas. Foto: Harald Tittel/dpa

Berlin/Detroit. 13. Juli 2021 – Kurz vor dem Besuch von Bundeskanzlerin Angela Merkel in Washington ist Außenminister Heiko Maas am Dienstag zu einer dreitägigen USA-Reise aufgebrochen.

Am Dienstag wollte er zunächst in der einstigen Industriemetropole Detroit im Nordosten des Landes Station machen und eine Produktionsstätte des Pharmakonzerns Pfizer in der Nähe besuchen.

Pfizer arbeitet mit dem deutschen Unternehmen Biontech bei der Produktion von Corona-Impfstoffen zusammen.

Vor seinem Abflug betonte Maas erneut, wie wichtig die internationale Zusammenarbeit bei der Verteilung von Impfstoffen sei. „Ohne weltweite Solidarität bei der Impfstoffverteilung wird Delta nicht die letzte Variante gewesen sein, die wir besiegen müssen“, betonte er. Auf den Streit um eine Aussetzung des Patentschutzes für Impfstoffe ging er nicht ein. Die USA setzen sich dafür ein, Merkel ist strikt dagegen. Maas hatte sich zuletzt aber offen für Gespräche darüber gezeigt.

Am Dienstagabend reist der Außenminister weiter nach New York, wo er am Donnerstag an einer Sitzung des UN-Sicherheitsrats zum Libyen-Konflikt teilnimmt. Deutschland nimmt dabei eine Vermittlerrolle ein. Maas hatte erst vor drei Wochen zusammen mit den Vereinten Nationen ein Außenministertreffen in Berlin organisiert, bei dem es ein weiteres Mal darum ging, die Einmischung von außen in den Konflikt zu beenden. „Wir brauchen hier ein Zusammenwirken der internationalen Akteure und einen Abzug aller ausländischen Söldner und Soldaten“, betonte Maas vor seinem Abflug.

US-Außenminister Antony Blinken hatte das Libyen-Treffen mit seinem Antrittsbesuch in Berlin verbunden. Das ist ein Grund, warum Maas bei seiner Reise nicht in Washington Station macht, wo Bundeskanzlerin Merkel von US-Präsident Joe Biden empfangen wird. Sie wird außerdem mit der Ehrendoktorwürde der Johns Hopkins Universität ausgezeichnet. (dpa/dmz/hl)